光刻胶研发企业深圳邦得凌近日获悉，国家新型显示技术创新中心获得国家科技部批准组建，该中心由广东聚华新型显示研究院牵头申请，或将彻底改变中国乃至全球显示产业的发展走向。

光刻胶研发企业深圳邦得凌近日获悉，国家新型显示技术创新中心获得国家科技部批准组建，该中心由广东聚华新型显示研究院牵头申请，或将彻底改变中国乃至全球显示产业的发展走向。

我国光刻胶的研究始于20世纪70年代，最初阶段与国际水平相差无几，但由于种种原因，差距愈来愈大。发展至今，我国中低端光刻胶产品在全球占有一席之地，但高端光刻胶基本全部依赖进口。

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。光刻胶已经成为半导体领域的关键材料之一。我国自主的光刻胶产业发展，也是我国芯片产业自强打破国外垄断征程上的重要一环。

光刻胶理论：什么是光刻胶？光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。

随着全球PCB，面板和半导体行业增产能的东移，中国光刻胶需求也在不断提升。2019年全球光刻胶市场规模超91亿美元，自2010年至今CAGR约5.4%。预计该市场未来3年仍将以年均5%的速度增长，至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。

光刻胶是重要半导体材料，智研咨询发布的《2020-2026年中国光刻胶行业市场深度监测及投资战略决策报告》数据显示：中国半导体材料市场稳步增长

11月26日，首届中国·松山湖新材料高峰论坛在东莞松山湖召开。<br/>本次论坛旨在构建“科研-资本-产业”对话平台，实现科研、资本、产业的高效对接，推动新材料行业前瞻性研究成果共享，提高科技成果转化率，服务国家创新驱动发展战略。

以日本为鉴，半导体市场重心向中国转移，国产半导体光刻胶迎发展良机。国家政策彰显决心，国产半导体光刻胶研发生产或进入快车道。

光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。光刻胶是电子领域微细图形加工的关键材料之一。本文详细介绍光刻胶材料，光刻胶分类，光刻胶应用领域，光刻胶公司以及光刻胶应用案例。

作为半导体卡脖子的技术之一，很多人只知道光刻机，却不知道光刻胶的重要性，这个市场也是被日本及美国公司垄断，TOP5厂商占了全球85%的份额。