作为半导体卡脖子的技术之一，很多人只知道光刻机，却不知道光刻胶的重要性，这个市场也是被日本及美国公司垄断，TOP5厂商占了全球85%的份额。

国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中，能做到G 线（436nm）、I 线 （365nm）水平，目前主要在用的ArF光刻胶还是靠进口，EUV光刻胶目前还没有公司能生产，基本上都控制在日本公司手中。

不过EUV光刻胶也不是急需的，因为国内目前还没有EUV工艺量产，193nm的ArF光刻胶更加重要，目前国内有多家公司正在攻关中，这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。

十年扎根光刻胶技术，邦得凌获得本翼科技天使轮融资

深圳市邦得凌触控显示技术有限公司成立于2018年11月，是一家自主研发并生产负型光刻胶（也称为负型光阻剂）的高科技企业。创始团队不仅具备卓越的光刻胶配方和树脂原材料的设计开发能力，而且掌握底层元器件的加工制造技术，具有实现先进材料和先进制造一体化的双重创新基因。公司充分吸收日本特种感光高分子功能材料技术及本土纳米材料复合技术，多年来不断深耕于高分子黄光树脂合成及其各类负型光刻胶配方、纳米材料与光阻剂复合技术，在该领域具备国内前沿的研发水平，拥有多项发明专利。