用于制造超厚（50-200um）和中厚（10-50um）MEMS微结构，以及普通膜厚（0.3-10um）的各种挖洞、字符等型貌的光刻线条；适合i、G线，X-Ray，E-beam曝光

A. 外观：银灰色低粘度液体

B. 粘度：3-5cp

C. 固含量：1.0-2.0%；乙酸丁酯、PMA、DBE混合溶剂

D. 成膜特性：透光率高，Pattern精度高，显影固化后导电率均匀 

如接到使用方技术服务请求后48小时内，将用电话、传真、E-mail提供解决方案或派人前往协助解决