光刻胶是电子领域微细图形加工的关键性材料，在半导体、新型显示、印制电路板等行业的生产中具有重要作用。光刻胶是电子化学品中技术壁垒最高的材料，也是集成电路生产制造的核心材料，光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的35%；在显示应用领域，彩色光刻胶和黑色光刻胶是制备彩色滤光片的核心材料，彩色滤光片是TFT-LCD实现彩色显示的关键器件。

在 PCB 领域光刻胶主要包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等。目前国产光刻胶主要集中在PCB、分立器件等应用产品，TFT级乃至芯片级的产品还主要依赖进口，对外依存度达80%，光刻胶核心技术难题急需尽快突破。

为推动国内高端光刻胶技术创新，加快核心技术突破与产业化应用，同时加强下游需求应用与科研、产业企业的协同研发、技术交流，行业协会于近期在江苏省成功召开“2020·光刻胶先进技术和产业应用研讨会”。会议围绕集成电路、新型显示等领域高性能光刻胶技术、产品应用研究以及光刻胶专用树脂、光引发剂等原料技术等方面展开研讨，产学研用、上下游深入交流。

会议由中国电子材料行业协会常务副秘书长、电子化工新材料产业联盟秘书长鲁瑾主持。

本次会议有近150家光刻胶产业链相关单位的260多位代表齐聚一堂，共同围绕光刻胶技术、产品、需求、应用展开研讨，对推动国内高端光刻胶技术创新，加快核心技术突破与产业化应用，加强下游需求应用与科研、产业企业的协同研发、技术交流起到了强有力的支撑作用。

大会现场

深圳市邦得凌触控显示技术有限公司成立于2018年11月，是一家自主研发并生产负型光刻胶（也称为负型光阻剂）的高科技企业。创始团队不仅具备卓越光刻胶配方和树脂原材料的设计开发能力，而且掌握底层元器件的加工制造技术，具有实现先进材料和先进制造一体化的双重创新基因。

公司充分吸收日本特种感光高分子功能材料技术及本土纳米材料复合技术，多年来不断深耕于高分子黄光树脂合成及其各类负型光刻胶配方、纳米材料与光阻剂复合技术，在该领域具备国内前沿的研发水平，拥有多项发明专利。